

低總有機碳(TOC)測定的試管準備準則-華普通用
建議的美國藥典USP23要求,對于純化水(PW)和注射用水(WFI),應使用總有機碳含量(TOC)測定替代當前的易氧化物測試。為支持使用自動(dòng)進(jìn) 樣器在實(shí)驗室測量TOC的建議要求,最小化并去除來(lái)自試管及樣品準備過(guò)程的背景碳,是非常關(guān)鍵的。
適用范圍
本文設計用于協(xié)助制藥公司遵循水質(zhì)量的建議規格。本文檢驗了幾種不同的試管和玻璃器皿清洗方法。
在試管中進(jìn)行總碳分析時(shí),背景污染可有多種不同的來(lái)源。最大的潛在背景碳含量來(lái)源之一,可以直接來(lái)自用于試管漂洗和樣品制備的水源。為了進(jìn)行此測定,可使用諸如本研究所用的Sievers* 800型 等在線(xiàn)TOC分析儀直接測量水源中的總有機碳(TOC)含量。如果水源是商品瓶裝水,則應從容器直接取樣進(jìn)行該分析。如果水源為實(shí)驗室水系統,充注1升干凈的玻璃燒瓶并從該燒瓶取樣進(jìn)行分析。表1顯示了使用這些技術(shù)在Sievers分析儀得到的結果。
當水轉移到燒瓶和試管內時(shí)很容易被污染,正如以上所示,Sievers分析儀的水轉移到燒瓶中的TOC含 量更高。如果可能的話(huà),檢驗所選水源類(lèi)型,以顯示其具有穩定的低TOC。
污染的第二個(gè)主要來(lái)源可來(lái)自試管和清洗步驟。為了測定TOC背景污染的初始程度,請使用強烈的清 洗步驟。在科學(xué)界廣泛使用的清洗實(shí)驗室玻璃器皿的方法是鉻酸溶液(Sievers分析儀技術(shù)方案914- 80005),已經(jīng)被從美國藥典的實(shí)驗室玻璃器皿清 洗<1051>章中去除。使用該步驟清洗的試管和其他 玻璃器皿將獲得較低的TOC背景污染。在獲得較低 的背景污染之后,需要慎重檢驗更溫和的清洗步驟 以獲得同樣的結果。這里所檢驗的腐蝕性最小的化 學(xué)清洗步驟是CIP-100洗滌劑。作為清洗劑的替代 方案,可使用馬弗爐清洗玻璃器皿。馬弗爐工藝需 要的人工更少,但初始設備成本巨大。如表所示, 硫酸清洗、馬弗爐和CIP-100洗滌劑清洗過(guò)程與鉻 酸清洗過(guò)程的結果相當。CIP-100洗滌劑的一個(gè)優(yōu) 點(diǎn)是只需要10次漂洗,而與之相比,其他清洗劑需 要15或20次漂洗。Alconox實(shí)驗室洗滌劑不建議作為低TOC工作的清洗劑。
當表中所使用的試管,加入足夠的苯醇醚(Octoxynol)(Triton X-100),形成當充滿(mǎn)去離子水時(shí)50 ppm(以碳計)的溶液,這時(shí)的清洗是有 挑戰性的。使這些標準添加溶液在各試管中干燥, 然后進(jìn)行各種清洗步驟。
當細菌污染成為問(wèn)題時(shí),微生物群落存在類(lèi)似的情 況。在這里開(kāi)發(fā)了無(wú)菌化技術(shù),以應對微生物工作 中遇到的交叉污染問(wèn)題。 此概念可部分適用于碳樣品的制備。
例如,適合碳樣品制備的無(wú)菌化概念為:
1) 避免直接觸摸墊片、移液管、自動(dòng)取樣器針和其他與樣品直接接觸的設備,
2) 制備樣品時(shí)時(shí)避免對著(zhù)它們呼吸,
3) 避免采集前幾毫升的樣品流,采集樣品前等待,直到一些體積經(jīng)過(guò)并凈化管道
4) 當將試管載入自動(dòng)取樣器時(shí)避免接觸覆蓋試管的隔膜。
第二種意見(jiàn)是僅使用新試管進(jìn)行 TOC 分析。這種做法費錢(qián)費力,因為這些新試管需要進(jìn)行15 次漂洗的準備步驟。使用此方法獲得的 TOC 值列在表中。
而另一種方法是購買(mǎi)制造商預清洗的試管。然而此 處列出的試管,供應商沒(méi)有直接測試其 TOC,而是 測試其揮發(fā)性有機化合物。因此,沒(méi)有保證其最大 TOC 含量。這些預清洗的試管充注 Sievers 低有機 物去離子水,并在儀器上進(jìn)行分析。結果如圖 4 所 示。
減小背景碳污染的第三步是遵守嚴格的制備技術(shù)。 特別小心地處理與樣品接觸的試劑和設備,因為碳 污染無(wú)處不在。
例如,儲存在塑料袋中的墊片,如果手伸入內部時(shí), 可能受到殘留的手紋油的污染。表 5 顯示了使用故意被手紋直接污染的隔膜時(shí)更高的 TOC 含量。右列 顯示了在樣品制備時(shí)上下表面皆有觸摸的隔膜。碳污染量是樣品制備時(shí)與臟手或表面接觸程度的反映。
結論
在樣品制備的三個(gè)方面敘述了背景碳的潛在原因。要在低碳背景污染下獲得穩定的 TOC 結果, 水、試管和樣品制備方法都必須仔細地監控。