蔡司展示了其新一代的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)系列ZEISS GeminiSEM。新型蔡司GeminiSEM 360、460和560專(zhuān)為亞納米成像和輕松分析而量身定制。用戶(hù)將受益于電子光學(xué)技術(shù)的創(chuàng )新和提供更好圖像質(zhì)量，可用性和靈活性的新型腔室設計。
 
　　現已推出的ZEISS GeminiSEM 560首次將以ZEISS Gemini 3色譜柱推向市場(chǎng)。
 
　　新型蔡司GeminiSEM系列可提供任何樣品的更多信息，較大程度地減少樣品損壞并防止樣品偽影。這三種型號均采用全新的腔室設計，使研究人員能夠比以前引入更大和更多的樣品，從而使核心設施現在可以在一臺儀器中為更多的分析應用提供服務(wù)。蔡司雙子座電子光學(xué)鏡筒的獨特設計以及大而靈活的新型反應室，可滿(mǎn)足所有成像和分析需求。較大的腔室可實(shí)現可配置性和靈活性，以適應即將到來(lái)的研究任務(wù)并優(yōu)化分析工作流程。
 
　　新型電子光學(xué)柱和智能自動(dòng)駕駛儀
 
　　蔡司GeminiSEM 560設定了表面成像的新標準。引入了帶有納米雙透鏡的新型蔡司Gemini 3電子光學(xué)器件及其新型電子光學(xué)引擎Smart Autopilot，該器件經(jīng)過(guò)定制，可在以高分辨率對敏感的樣品成像時(shí)易于使用。在蔡司GeminiSEM系列產(chǎn)品中，560型在所有工作條件下均可提供較高分辨率，并在著(zhù)陸能量低于1 kV時(shí)突破了浸沒(méi)和無(wú)單色表面成像的極限。
 
　　非導電礦物蒙脫石在斷裂表面上的納米級特征，在低著(zhù)陸能量下可視化，蔡司GeminiSEM 560，Inlens SE圖像，800 V，比例尺為100 nm。
 
　　在成像和分析中提高效率和易用性
 
　　該系統可以輕松地從標準設置過(guò)渡到高級設置。新的概覽模式簡(jiǎn)化了樣品的定向。用戶(hù)可以輕松地從低放大率導航到高放大率，而無(wú)需調整列的對齊方式。該系統可提供同類(lèi)產(chǎn)品中大的無(wú)失真視場(chǎng)。這樣就可以對大型的，具有挑戰性的樣品進(jìn)行成像，例如材料研究中的磁性樣品。改進(jìn)后的自動(dòng)功能是目前世界上較快的，其自動(dòng)對焦功能可在不到一秒鐘的時(shí)間內提供聚焦圖像。